Литография высокого разрешения в технологии полупроводников

Содержание реферата

1. Фотолитография.

   1.1    Ведение
   1.2    Основы оптики
   1.3    Контактная печать и печать с зазором
   1.4    Проекционная печать
   1.5    Совмещение
   1.6    Фотошаблоны
   1.7    Перспективы развития фотолитографии

2. Электронно-лучевое  экспонирование

   2.1    Введение
   2.2    Характеристики электронно-лучевых установок
   2.3    Поглощение излучения высоких энергий
   2.4    Производительность систем ЭЛ экспонирования
   2.5    Радиационные резисты
   2.6    Оборудование для ЭЛ экспонирования
   2.7    Совмещение
   2.8    Эффекты близости
   2.9    Радиационные повреждения приборов
   2.10  Перспективы

3. Рентгеновское и ионно-лучевое экспонирование

   3.1    Рентгеновское излучение
   3.2    Ионные пучки.

4. Заключение

5. Список литературы